Головна
Авторизація
Прізвище
№ читательского билета
 

Бази даних


Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Зона пошуку
Формат представлення знайдених документів:
повний інформаційнийкороткий
Пошуковий запит: <.>K=chemical bath deposition<.>
Загальна кількість знайдених документів : 1
1.

Форма документа : Стаття із журналу
Шифр видання :
Автор(и) : Abubakar D., Mahmoud N., Mahmud Sh.
Назва : Investigation on the structural and optical properties of NiO nanoflakes. Chemical bath deposition of Ni(OH)[[d]]2[[/d]] thin films
Місце публікування : Український фізичний журнал. - Київ, 2017. - Т. 62, № 11. - С. . 964-971: рис. 4, табл. 2
Примітки : Бібліогр.: с. 970-971 (25 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ
УДК : 539
Предметні рубрики: Фізика
Физика
Будова матерії
Строение материи
Ключові слова (''Вільн.індекс.''): annealing temperature--температура відпалу--температура отжига--nanoflakes--нанолусочки--thin films--тонкие пленки--тонкі плівки--chemical bath deposition--метод хімічного осадження--метод химического осаждения--nickel oxide--оксид нікелю--оксид никеля
Анотація: Методом хімічного осадження вирощені пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримані тонкі плівки і піддані відпалу при змінній температурі в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості і морфологію поверхні. Методом емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)[[d]]2[[/d]] тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений при 300 [[p]]о[[/p]]С. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає р-типу NiO тонкої плівки. Методом атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений при 300 [[p]]о[[/p]]С, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється при 300 [[p]]о[[/p]]С. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність NiO/Ni(OH)[[d]]2[[/d]] піка при відпалі. Вимірювання в ультрафіолеті і видимому світі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300[[p]]о[[/p]]С через високу кристалічність. Ця температура оптимальна для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що важливо для їх застосування в сенсорах.
Перейти к внешнему ресурсу: \\new\textlok\Укр_фізич_журн_2017_11\7.pdf
Знайти схожі

 
© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)