Головна
Авторизація
Прізвище
№ читательского билета
 

Бази даних


Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Зона пошуку
Формат представлення знайдених документів:
повнийінформаційнийкороткий
Пошуковий запит: <.>K=плазмохимическое поедание<.>
Загальна кількість знайдених документів : 1
1.


    Hladkovskiy, V. V.
    Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures / V. V. Hladkovskiy // Український фізичний журнал : науковий журнал. - 2017. - Т. 62, № 3. - P. 206-211 : рис. 4. - Бібліогр.: с. 210-211 (18 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕКІ
УДК
Рубрики: Фізика
   Физика

   Фізика плазми

   Физика плазмы

Кл.слова (ненормовані):
bias voltage -- plasma-chemical etching -- sputtering -- plasma-chemical reactor -- radio-frequency discharge -- optical spectroscopy -- напруга зміщення -- напряжение смещения -- плазмохімічне травлення -- плазмохимическое поедание -- розпилення -- распыление -- плазмохімічний реактор -- плазмохимический реактор -- раідочастотний розряд -- радиочастотные разряды -- оптична спектроскопія -- оптическая спектроскопия
Анотація: Приведено результати експериментальних досліджень впливу напруги зміщення на еволюцію спектрів випромінювання плазми при травленні нітриду галію в плазмохімчному реакторі (ПХР) з керованими магнітними полями. При значеннях напруги зміщення більших за -250 В на спектрах випромінювання плазми з'являються лінії, що належать збудженим атомам матеріалів, з яких виготовлений робочий електрод. Під впливом від'ємного потенціалу проходить розпилення активного електрода і переосадження іонів металу на поверхню зразка, який обробляється, що приводить до зменшення швидкості травлення.


Дод.точки доступу:
Fedorovich, O. A.

Знайти схожі

 
© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)