Наукова бібліотека Українського державного університету науки і технологій

Головна

Бази даних

Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Каталог книг

Каталог книг НМетАУ (до 2022 року)

Періодичні видання (друковані)

Статті, доповіді, тези

Рідкісні та цінні видання

Охоронні документи

Мережеві ресурси

Зона пошуку

Формат представлення знайдених документів:
повний	інформаційний	короткий

Відсортувати знайдені документи за:
автором	назвою	роком видання	типом документа

Пошуковий запит: <.>K=sparking process<.>

Загальна кількість знайдених документів : 2
Показані документи с 1 за 2

Morphology and phase transformation of copper/aluminium oxide films / A. Panthawan // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 5. - P. 425-430 : рис. 6. - Бібліогр.: с. 428-430 (37 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ

УДК

539

Рубрики: Фізика
   Физика
   Будова матерії
   Строение материи
Кл.слова (ненормовані):
sparking process -- електроіскровий метод -- электроискровой метод -- CuAlO₂ -- annealing -- відпал -- отжиг -- phase transformation -- фазові перетворення -- фазовые превращения -- окис міді -- окись меди
Анотація: Одностадійним електроіскровим методом при атмосферному тиску отримано окис міді і алюмінію CuAlO₂. Тільки, що виготовлені плівки відпалені в печі при 400, 900, 1000 і 1100 ^оС. Результати показали, що морфологія, фазове перетворення і оптичні властивості залежать від температури відпалу. CuAlO₂ у фазі делафоссіта утворюється на відпалених плівках за температурою вище 900 ^оС. Ширина забороненої зони відпалених плівок лінійно зростає від 3,3 до 3,8 еВ із збільшенням температури відпалу від 400 до 1100 ^оС завдяки зменшенню дефіциту кисню при високих температурах відпалу.

Дод.точки доступу:
Panthawan, A.; Kumpika, T.; Sroila, W.; Kantarak, E.; Thongpan, W.; Pooseekheawa, P.; Sornphanpeea, R.; Jumrus, N.; Sanmuangmoond, P.; Tuantranontde , A.; Singjai, P.; Thongsuwan, W.

Знайти схожі

External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO₂ film prepared by the sparking process / W. Thongpan // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 6. - P. 530-536 : рис. 6, табл. 1. - Бібліогр.: с. 535-536 (39 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ

УДК

539

Рубрики: Фізика
   Физика
   Будова матерії
   Строение материи
Кл.слова (ненормовані):
TiO₂ film -- плівки TiO₂ -- пленки TiO₂ -- sparking process -- іскровий розряд -- искровой разряд -- external electric fields -- зовнішнє електричне поле -- внешнее электрическое поле -- nanoparticles -- наночастинки -- наночастицы -- sparking aparatus -- іскровий апарат -- искровой аппарат
Анотація: Зовнішнє електричне поле застосовано для збільшення однорідності і швидкості утворення плівок TiO₂. Експеримент виконано іскровим розрядом з Ti дротів при сталій напрузі 1 кВ (поле Е_int = 10 кВ/см) і невеликому струмі 3 мА. Система іскрового розряду перебувала в зовнішніх електричних полях (Е_ext) 3, 6, і 9 кВ/см від 1 до 5 годин. Морфологія тільки що приготовлених плівок визначалася методом растрової електронної мікроскопії. Показано, що плівки формуються тільки в області дії зовнішнього електричного поля. У зовнішньому електричному полі 9 кВ/см швидкість утворення плівок збільшилася з 40,7% до 77, 8%. Досліджено і описано дію зовнішнього електричного поля на швидкість утворення і однорідність плівок.

Дод.точки доступу:
Thongpan, W.; Kumpika, T.; Kantarak, E.; Panthawan, A.; Pooseekheaw, P.; Singjai, P.; Thongsuwan, W.; Tuantranont, A.

Знайти схожі

© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)