Наукова бібліотека Українського державного університету науки і технологій

Головна

Бази даних

Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Каталог книг

Каталог книг НМетАУ (до 2022 року)

Періодичні видання (друковані)

Статті, доповіді, тези

Рідкісні та цінні видання

Охоронні документи

Мережеві ресурси

Зона пошуку

Формат представлення знайдених документів:
повний	інформаційний	короткий

Пошуковий запит: <.>K=метод химического осаждения<.>

Загальна кількість знайдених документів : 1

Abubakar, D.
Investigation on the structural and optical properties of NiO nanoflakes. Chemical bath deposition of Ni(OH)₂ thin films / D. Abubakar // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 11. - P. 964-971 : рис. 4, табл. 2. - Бібліогр.: с. 970-971 (25 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ

УДК

539

Рубрики: Фізика
   Физика
   Будова матерії
   Строение материи
Кл.слова (ненормовані):
annealing temperature -- температура відпалу -- температура отжига -- nanoflakes -- нанолусочки -- thin films -- тонкие пленки -- тонкі плівки -- chemical bath deposition -- метод хімічного осадження -- метод химического осаждения -- nickel oxide -- оксид нікелю -- оксид никеля
Анотація: Методом хімічного осадження вирощені пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримані тонкі плівки і піддані відпалу при змінній температурі в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості і морфологію поверхні. Методом емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)₂ тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений при 300 ^оС. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає р-типу NiO тонкої плівки. Методом атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений при 300 ^оС, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється при 300 ^оС. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність NiO/Ni(OH)₂ піка при відпалі. Вимірювання в ультрафіолеті і видимому світі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300^оС через високу кристалічність. Ця температура оптимальна для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що важливо для їх застосування в сенсорах.

Перейти к внешнему ресурсу: \\new\textlok\Укр_фізич_журн_2017_11\7.pdf

Дод.точки доступу:
Mahmoud, N.; Mahmud, Sh.

Знайти схожі

© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)