Наукова бібліотека Українського державного університету науки і технологій

Головна

Бази даних

Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Каталог книг

Каталог книг НМетАУ (до 2022 року)

Періодичні видання (друковані)

Статті, доповіді, тези

Рідкісні та цінні видання

Охоронні документи

Мережеві ресурси

Зона пошуку

Формат представлення знайдених документів:
повний	інформаційний	короткий

Пошуковий запит: <.>K=окисленный рубрен<.>

Загальна кількість знайдених документів : 1

Gavrilko, T.
Optical properties and stability of bilayer rubrene-Alq3 films fabricated by vacuum deposition / T. Gavrilko, V. Nechytaylo, L. Viduta, J. Baran // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 4. - P. 362-369 : рис. 7. - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ

УДК

539

Рубрики: Фізика
   Физика
   Будова матерії
   Строение материи
Кл.слова (ненормовані):
rubrene -- Alq3 -- oxidized rubrene -- окислений рублен -- окисленный рубрен -- vacuum deposition -- вакумні напорошення -- вакуумные напыления -- thin films -- тонкі плівки -- тонкие пленки -- FTIR spectra -- Спектри FTIR -- Спектры FTIR -- photoluminescence -- фотолюмінесценція -- фотолюминесценция
Анотація: Досліджено оптичні та структурні властивості двокомпонентних плівок рубрен-Alq3, одержаних методом вакуумного напорошення (ВН). Відомо, що доповані рубреном активні матеріали для органічних світловипромінювальних діодів та транзисторів демонструють покращені електролюмінесцентні та електротранспортні характеристики, але практичному застосуванню таких систем перешкоджає хімічна нестабільність рубрену, що скорочує експлуатаційний термін служби відповідних пристроїв. В роботі досліджено вплив захисного шару Alq3, а також наявності різних ізомерів молекули рубрену на його хімічну стабільність у двошарових тонкоплівкових структурах. На основі експериментальних досліджень спектрів ІЧ поглинання та часової еволюції спектрів фотолюмінесценції було показано, що процес фотодеградації (утворення перекису) рубрену у плівках рубрен-Alq3 відбувається більш повільно, ніж у тонких шарах самого рубрену. Результати свідчать про те, що нанесення захисного шару Alq3 може бути засобом підвищення хімічної стійкості рубрену до фотоокислення у оптоелектронних приладах. Також нами вперше виявлено процес кристалізації аморфної плівки фотоокисленого рубрену під час її високотемпературного відпалу, який супроводжується відновленням первісної хімічної структури молекули рубрену.

Дод.точки доступу:
Nechytaylo, V.; Viduta, L.; Baran, J.

Знайти схожі

© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)